30CrMnSiNi2A鋼是我國航空工業(yè)廣泛應(yīng)用的低合金超高強(qiáng)度鋼,其具有較好的淬透性,經(jīng)熱處理后具有較高的強(qiáng)度、塑性和韌性,以及良好的抗疲勞性和斷裂韌性,低的疲勞裂紋擴(kuò)展速率,但對(duì)缺口和氫脆(包括環(huán)境氫脆)較敏感。起落架是飛機(jī)的關(guān)鍵部件之一,可用于支承飛機(jī)質(zhì)量、吸收撞擊能量,要求其具有高的強(qiáng)度和韌性、良好的耐腐蝕性和抗疲勞性等,因此常選用超高強(qiáng)度鋼制造及裝配起落架零件。為充分發(fā)揮超高強(qiáng)度鋼的優(yōu)異性能,需要對(duì)結(jié)構(gòu)中零件采用不同的處理工藝,通常采用電鍍或磷化等表面處理方法提高零件的耐腐蝕性能。但是表面處理工藝與超高強(qiáng)度鋼自身對(duì)氫脆較敏感,如果工藝設(shè)計(jì)和實(shí)施不當(dāng),會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)質(zhì)量問題,影響起落架的安全使用。
將安裝軸與前起落架輪叉連接,用于安裝前機(jī)輪,安裝軸的材料為30CrMnSiNi2A鋼,熱處理要求強(qiáng)度為(1 666±98) MPa,外表面桿部鍍硬鉻,其余表面進(jìn)行磷化處理。該安裝軸大修后隨飛機(jī)裝機(jī)并使用一段時(shí)間后,經(jīng)磁粉檢測(cè)發(fā)現(xiàn)在安裝軸端頭支撐面附近的R角周向有多處裂紋,裂紋斷續(xù),長度不等。采用一系列理化檢驗(yàn)方法對(duì)安裝軸裂紋產(chǎn)生的原因進(jìn)行分析,并提出了改進(jìn)措施,以避免該類問題再次發(fā)生。
1. 理化檢驗(yàn)
1.1 宏觀觀察
開裂安裝軸宏觀形貌如圖1所示。由圖1可知:光桿部位兩個(gè)鍍鉻區(qū)域光亮,中間段及左側(cè)端頭支撐面的亮灰色區(qū)為磷化處理表面,鍍鉻層表面沿周向可見磨損痕,有些磨痕與周向呈傾斜角度。
安裝軸支撐面R角周向表面宏觀形貌如圖2所示。由圖2可知:裂紋位于支撐面附近R角區(qū)域,目視無法辨識(shí)裂紋特征,支撐面約3/4周可見磨損發(fā)亮,磨損區(qū)寬度相近,局部R角根部有周向擠壓痕,端頭四方面表面完整,相鄰四方面與圓角結(jié)合的支撐面局部磨損發(fā)亮,表面的磷化層呈亮灰色。
在體視顯微鏡下對(duì)R角區(qū)域裂紋進(jìn)行觀察,結(jié)果如圖3所示。由圖3可知:裂紋位于R角區(qū)域表面,沿周向呈斷續(xù)分布,裂紋區(qū)約占2/5圓周,在裂紋附近的支撐面上可見周向局部磨損痕,寬度相近,磨損程度逐漸減輕,這些表面磨損痕跡由裝配后與機(jī)輪等零件配合接觸所致。
將裂紋區(qū)沿縱向垂直表面切割,在裂紋區(qū)背面周向用砂輪打磨減薄截面,打斷后觀察斷口的宏觀形貌,結(jié)果如圖4所示。由圖4可知:靠近切割邊緣的裂紋較長,其斷面寬度相近,寬度約為0.39 mm,斷面較平齊,表面較粗糙,呈暗褐色;裂紋呈不連續(xù)狀,伴隨出現(xiàn)兩處小裂紋斷面,裂紋長度分別為2.83,2.16 mm,裂紋深度為0.17 mm,呈暗褐色,打斷區(qū)呈亮灰金屬色,撕裂棱線明顯。
1.2 掃描電鏡(SEM)及能譜分析
用掃描電鏡對(duì)裂紋區(qū)進(jìn)行觀察,結(jié)果如圖5所示。由圖5可知:表面裂紋沿周向斷續(xù)分布,局部還出現(xiàn)并列排布裂紋,裂紋附近表面膜層吻合性較好,磷化層表面呈針狀形貌,無明顯膜層損傷、缺失現(xiàn)象。
利用掃描電鏡對(duì)多處裂紋斷口進(jìn)行觀察,結(jié)果如圖6所示。由圖6可知:各處裂紋的深度相近,斷口呈沿晶形貌,局部可見擴(kuò)展臺(tái)階,附近撕裂棱線明顯,靠近膜層的斷口晶面上局部有附著物聚集,斷口中部區(qū)域呈沿晶形貌,晶粒表面較干凈;人為打斷區(qū)和裂紋斷面處的分界線明顯,形貌由沿晶特征轉(zhuǎn)變?yōu)轫g窩特征,晶面上可見撕裂棱線形貌,且伴有沿晶二次裂紋。
在斷口上從膜層向基體瞬斷區(qū),并經(jīng)過裂紋區(qū)取樣,對(duì)各位置試樣分別進(jìn)行能譜分析,結(jié)果如表1所示。由表1可知:膜層表面主要含有磷化處理的相關(guān)元素,如P、Zn、K、Ca等元素,其中C、O元素含量較多,與表面裸露有關(guān),膜層附近的斷面上存在少量的膜層成分,C、O元素含量變少,說明裂紋開口縫隙的膜層物質(zhì)轉(zhuǎn)移附著;裂紋區(qū)、過渡區(qū)斷口表面除含有正?;w元素外,還含有C、O元素及微量Zn元素,說明裂紋表面有氧化現(xiàn)象,但未見Cl、S等外來腐蝕介質(zhì)元素;瞬斷區(qū)為正常的材料基體成分,由于斷面較新鮮,其表面氧元素含量較少。
分析位置 | 質(zhì)量分?jǐn)?shù) | ||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
C | O | Si | P | K | Ca | Cr | Mn | Fe | Ni | Zn | |
膜層 | 27.24 | 27.85 | 0.23 | 8.96 | 0.16 | 0.39 | - | 1.62 | 3.52 | - | 20.62 |
膜層附近 | 3.61 | 1.35 | 0.91 | 0.43 | - | - | 0.88 | 1.51 | 88.58 | 1.65 | 1.07 |
裂紋斷口 | 3.08 | 5.28 | 1.16 | - | - | - | 1.09 | 1.24 | 86.36 | 1.78 | 0.08 |
過渡區(qū)斷口 | 2.35 | 3.28 | 0.99 | - | - | - | 1.04 | 1.18 | 89.49 | 1.65 | 0.03 |
瞬斷區(qū) | 3.98 &nbs |